咨询热线：
020-88888888
020-88888888
SPIE高级光刻会议是世界领先的光刻技术会议。在今年会议揭幕的当天，三星和英特尔陈述了当前EUV用作大批量生产的打算状况。
本文将不会总结四个世界领先晶圆制造厂的EUV计划，辩论关于英特尔、三星的工程进度，探究EUV的大批量生产的前景。世界领先晶圆厂的EUV计划在2016年，三星和台积电都开始展开10nm工艺的升级，我们称作“制程工艺”，节距在10nm节点时早已显得没有那么严苛。两个厂商都用光刻技术生产，也是目前最密集的晶圆生产方法。
对于台积电来说，10nm节点却是一个短期的想，主要集中于在手机处理器上。对于三星10nm，这有可能将不会是一个更长寿命的节点，原因如下。在2017年，我们期望着台积电7nm工艺的升级和英特尔需要加快10nm节点进程。据目前报导，预计台积电7nm工艺和10nm工艺的间距完全相同。
有一些证据指出，英特尔的10nm工艺有可能比台积电7nm工艺享有更加小的轨道间距，这就使得英特尔10nm工艺比台积电的7nm工艺更加密集，公司所称为的节点名称或许对进展进程没啥意义。台积电的7nm和英特尔的10nm工艺都将不会使用光刻技术生产，虽然台积电用于的是7nmEUV测试工具。预计，2018年格罗方德和三星将不会生产7nm工艺。
格罗方德的最初工艺将使用光刻技术生产，但当EUV时机成熟时，将改向EUV（事实上，他们正在用于EUV来加快工艺的研发），三星早已对外声称，将用于EUV来应付7nm工艺。三星这次对EUV的赌局，也使得他们能否在2018年公布出来，减少了不确认因素，如此显然，三星10nm工艺节点将不会享有更长寿命。在2019年，台积电有可能将不会升级到5nm制程工艺，我们期望这个工艺将用于EUV技术。
预计在2020年，英特尔将使用7nm工艺。如果EUV需要成熟期，英特尔也不会使用此项技术。SPIE对于EUV的观测在2014年，台积电对EUV展开了十分乐观的评估。
在2015年和2016年，会议上的EUV氛围则显得更加有期望，还包括台积电早已有了更好悲观的评估。2017年，此次会议对EUV的评估则变成了悲观，虽然台积电今年并没作出评价，目前状态或许不是很悲观。另一个找到则十分有意思，在过去，EUV被视作一种比光学的成本要较低的技术。现在显然，我们必须EUV更好是在合理的经济层面上。
随着光罩需求量的大大减少，成本也水涨船高。同时覆盖物也将不会沦为Fab的灾难。覆盖物必须把光罩层有秩序的准确地摆放在彼此的身上。
而随着mask的减少，覆盖层也就不会沦为噩梦。EUV的前景就是增加mask，构建更佳的保真度和更加完全一致的电产率。英特尔和三星据英特尔报导，在2015年有7套EUV系统，现在有14套，其中分别为8套NXE3300B系统和6套NXE3350B系统。
从更好的行业数据来看，NXE3350B预计将类似于NXE3400。三星也注意到了EUV的优势是更高的分辨率和更加较少的mask，EUV的7nm工艺就比光学10nm必须较少的mask。
本文来源：bsport体育在线-www.cmifl.net
